众所周知,在全球芯片制造领域,也都无法离开荷兰ASML(阿斯麦)公司,这家公司几乎垄断着全球光刻机市场,尤其是在高端EUV光刻机市场,而根据ASML官方所发公布的数据,在更是创下了26台 出货量新纪录,预计在将会对外交付35台EUV光刻机设备,而在更是交付高达50台EUV光刻机,如此可见即便是售价不菲,但ASML光刻机设备依旧非常的抢手;而根据外媒最新报道,ASML公司目前正在研发全新一代EUV光刻机设备,预计在开始出货;
而目前ASML主要对外销售的光刻机设备为NXE:3400C,全新的模块化设计,也是让光刻机设备更加便于维护和维修,同时也支持7nm、5nm芯片工艺制程,而根据ASML此前所披露信息来看,目前也正在研发全新一代EUV光刻机设备EXE:5000系列,全新一代EUV光刻机设备的主要合作伙伴依旧还是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心,而这次全新研发的EXE:5000系列EUV光刻机,分辨率更是直接提升了70%,意味着ASML这次所研发的EUV光刻机设备将会直接瞄准2nm,甚至是极限1nm芯片制程工艺。
看到这里或许很多小伙伴们也是纷纷感叹,荷兰ASML公司在光刻机设备方面的技术实力确实也是让人钦佩,要知道目前我国目前自主研发的光刻机设备,能够实现大规模商用的芯片工艺最高也只能够达到90nm,当然我国的设备厂商,例如上海微电子、中电科四十五所、中电科四十八所等。也已经在65nm、28nm光刻机设备研发中取得了一定的进展,目前光刻机核心子系统双工件台系统样机研发项目通过内部验收,可以相信,在未来,我们国内的光刻机产业很快就能够给我们带来更大的惊喜,在这个全球市场化资源配置的大环境中,从理论上看,ASML光刻机设备虽好,只可惜这个世界上有太多无法被决定的东西,例如:“禁运、技术封锁”等等,所以对于我国的芯片产业的未来发展,自主研发光刻机设备同样也没有什么捷径可以走,只期待我国的光刻机设备精度能够一步步得到提升。
写在最后:当然目前对于ASML最新一代的EUV光刻机设备,至少还要等到才能够出货,全新的芯片工艺也将会直接提升芯片性能、降低芯片功耗、发热等等,为广大用户带来个更为极致体验;对此,各位小伙伴们,你们是否期待全新的2nm甚至是1nm芯片时代的到来呢?