国产如果能到11nm的程度，那么也不会陷入到无芯可用的尴尬境地。准确的说应该是研发研发的28nm光刻机将在正式落地，这款光刻机有生产11nm芯片的能力。
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从光源上细分现在世界上光刻机的发展前后已经经历了五代，第四代光刻机使用的是波长为139纳米的Arf光源的光刻机，其制程工艺节点为130纳米-65纳米，45纳米-22纳米，如果从这点上看上海微电子研发的28nm的光刻机是一个标准的四代光刻机。
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世界最先进的第五代光刻机使用的是波长为13.5纳米的EUV光源的极紫外光刻机，其制程节点为22纳米-7纳米。这个领域的产品基本上全被ASML把持着，无人能撼动其王者的地位。虽然上海微电子和ASML差距极大，但是它在低端光刻机市场依旧表现不俗，并在国内占据了80%的市场份额。
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从目前曝光的信息上看，上海微电子研发的28nm的光刻机有生产11nm芯片的能力，这对华为来说绝对是一个天大的好消息。目前台积电在加班加点的赶制华为最新麒麟芯片的订单，按照华为的公司战略，一般采购的芯片足够支撑公司两年使用。虽然最新的芯片采用了5nm的工艺，但是在11nm工艺的加工下依旧能用，当然不可避免的后果就是芯片体积变大、性能下降以及发热量提高，但是这比被完全被美国卡住脖子强太多。
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况且只要能熬过这几年，随着国家资源对光刻机领域的倾斜以及中美关系的改善，芯片问题也很可能会迎来新转机。其实这点很多科技领域的专家都做过预测，追赶是肯定追赶不上ASML的脚步了，但是达到ASML现在的水平还是有可能，当然专家们给了一个不太乐观的预测，那就是达到ASML现在的水平至少要10~左右。
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ASML其实类似于一个组装工厂，它设计出来最新的光刻机后需要从全世界采购最先进的零件，进而拼装组成一台完整的光刻机。现在这些零件商把持着所有零件的销售，即使我们拿到了ASML的图纸，没有零件依旧白搭。这意味着我们需要在光刻机的每个领域都要取得突破，除非得到国家的鼎力支持，否则光靠一个上海微电子还是过于势单力薄，不过上海微电子能研发出28nm的光刻机已经足够令人惊喜，既然被人卡住了脖子，那么只能撸起袖子加油干。
