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国内有可能研发出成熟的光刻机吗?来听听专家怎么说

时间:2020-09-26 21:23:37

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国内有可能研发出成熟的光刻机吗?来听听专家怎么说

光刻机,通过将各路电路的图案经过激光,缩微投影曝光到光刻胶上。看似简单的解释,其实非常复杂。所以,如今做的最好的就是荷兰的ASML的光刻机。而尼康,佳能,中国的上海微电子装备和它相比还远远不如。那么,为什么台积电,三星可以拥有ASML最先进的光刻机呢?主要是因为台积电,三星在ASML中都有股份。所以,它们可以第一时间使用到ASML公司的光刻机。

目前,我国为了摆脱这种困境,专门成立了,上海微电子装备有限公司(SMEE)。终于在研发出了90nm高端投影光刻机;而在内部验收了28nm光刻机。虽然说和荷兰ASML的7nm光刻机相去甚远,但是这已经是进步。高端光刻机不是一个国家的心血结晶,它是世界人民的心血结晶,它涉及的学科都是近代科学理论能够达到的巅峰,它包含了、数学、光学、流体力学、机械、精密仪器、高分子物理及化学、自动化、图像识别等众多学科的精华,毫不夸张的说,荷兰为什么能制造第五代光刻机,是整个欧洲及美国的众多高科技公司的技术结晶,所有的技术、设备都是最好的,中国想一国之力与欧洲及美国齐头并进,目前来说是很有难度的。

难度相当于中国60年代要造原子弹,但是从原子弹的事情告诉我们,中国只要想做一件事,哪怕环境再差,我们也能够造出来,我们缺的只是生产,我国芯片设计技术已经是世界前列,理论知识已经具备,现在只是设备问题而已。其实,上海微电子的在光刻机领域的进步虽然有目共睹,但是和荷兰之间的差异还是非常大的。这里主要是因为一些关键零部件,还是来欧美发达国家,比如瑞典的轴承,德国的镜头,美国的光栅,法国的阀件等等。而这些国家对于中国零部件都是禁运的。

中国本身就是可以造出光刻机的,不过比世界最先进的标准差两到三代,荷兰阿斯麦的高端光刻机现在可以做出7纳米工艺的成熟产品,下一步应该是5纳米,3纳米。不过最近两年我国光刻设备研发取得长足的进步,发展惊人,就在前两天爆出喜讯,中科院光电研究所攻关研制出世界首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。其实计划是2030年要达到世界先进水平,与世界先进技术齐平,以现在看来可能会提前完成目标。

我国光刻技术进步,会使世界上的光刻设备销售价变成白菜价,荷兰阿斯麦的高端光刻设备售价可以达到1亿多美金一台,光一个极紫外光源就要3000万,而我们的紫外光源只要几万块钱一个,光刻机整机也只需百万级别,到千万级别的。

从目前的情况来看,中国确实是有能力去研发光刻机的,而且也成功量产了许多。但要和最为先进的光刻机比,国内水平还相差甚远。不过也无需太过于担心,在光刻机这一方面中国的起步本来就很晚,现阶段比不了欧美国家也实属正常,但是我们有理由相信,光刻机这一难题在未来必然会被攻克,毕竟在5G通讯领域方面已经有华为给树立了一个很好的榜样!

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